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ZZS-630光學真空鍍膜機

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更新時間:2024-02-23 14:15:48瀏覽次數:109次

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產品簡介

設備型號:ZZS-630光學真空鍍膜機腔體尺寸:φ630mmxH750mm恢復真空:4x10-3Pa

詳細介紹

設備型號:ZZS-630光學真空鍍膜機

腔體尺寸:φ630mmxH750mm

恢復真空:4x10-3Pa,小于12分鐘

工件盤:φ570 SR540

加熱溫度:350°C

晶控:SQC310單探頭 六探頭

所需電力:三相、380V50HZ

電子槍:雙槍

設備進水壓:0.2~0.4MPa

真空系統:分子泵+雙級旋片泵

所需氣壓:0.6~0.8MPa

極限真空:9.0x10-5Pa

設備重量:2T

真空鍍膜設備的具體配置可根據客戶的鍍膜工藝要求進行量身設計及制作

 
 

關鍵詞:鍍膜機
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