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北京中科復華科技有限公司


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磁控濺射鍍膜設備

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參  考  價:￥10 - ￥280 /臺
具體成交價以合同協議為準
  • 產品型號

    MSP-300/400/5100/6200

  • 品牌

    其他品牌

  • 廠商性質

    生產商

  • 所在地

    北京市

聯系方式：陳經理查看聯系方式

更新時間：2024-04-09 10:03:17瀏覽次數：304次

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經營模式：生產廠家

商鋪產品：12條

所在地區：北京北京市

聯系人：陳經理 （銷售經理）

產品簡介
產地 國產    

磁控濺射法是在高真空充入適量的氬氣，在陰極（柱狀靶或平面靶）和陽極（鍍膜室壁） 之間施加幾百K 直流電壓，在鍍膜室內產生磁控型異常輝光放電，使氬氣發生電離。

詳細介紹

應用方向：科研與教學

產品優勢：效率高+多功能；垂直濺射+傾斜共濺射

產品配置：

★樣片數量及尺寸：6片Ф2英寸（垂直濺射）+ 1片Ф4英寸（共濺射）

★濺射材料：金屬；非金屬；化合物等薄膜材料。

★濺射腔體：高真空系統。

★濺射不均勻性：≤±3%-±5％

★磁控靶：2-4支；可調角度；可調距離

★濺射方向：樣品下置（自上而下濺射）或 樣品上置（自下而上濺射）

★加熱：常規加熱，可選高溫加熱

★電源配置：射頻；直流；直流脈沖；直流偏壓

★清洗功能：可選配考夫曼離子源

★快速反應濺射功能：可選配Speedflo

★膜厚監控功能：可選配晶控膜厚在線監測與終點控制

★操作模式：全自動+半自動控制

類似產品：MSP-300C；MSP-400B

選型參考：樣品在下（MSP-300B）；樣品在上（MSP-300BT）；配置考夫曼離子源（MSP-300BI/MSP-300BTI）



應用方向：棒狀樣品批量生產

產品優勢：棒狀樣品側壁鍍膜，立式設備

產品配置：

★樣片數量及尺寸：30-300根；Ф1mm～Ф30mm，L30mm～L200mm（依據靶尺寸和樣品尺寸定制）

★濺射材料：金屬；非金屬；化合物等薄膜材料。

★濺射腔體：高真空系統。

★濺射不均勻性：≤±5%-±8％

★磁控靶數量：2-4支矩形磁控靶

★磁控靶安裝形式：立式安裝

★樣品夾具：公轉+自轉

★加熱：常規加熱

★電源配置：射頻；直流

★清洗功能：可選配離子源清洗、射頻清洗、反濺清洗模式

★快速反應濺射功能：可選配Speedflo

★膜厚監控功能：可選配晶控膜厚在線監測與終點控制

★操作模式：全自動+半自動控制

類似產品：片狀樣品批量鍍膜（MSP-5100C）



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