當前位置:上海雋思實驗儀器有限公司>>環境檢測試驗箱>>行業專用試驗箱>> JS-HMDSHMDS真空烤箱,廣東光刻HMDS預處理烘箱
一、HMDS真空烤箱,光刻HMDS預處理烘箱技術參數:
電源電壓:AC 220V±10%/50Hz±2%
輸入功率:2400W
控溫范圍:室溫+10℃-250℃
溫度分辨率:0.1℃
溫度波動度:±0.5℃
達到真空度:133Pa
容積:90L
工作室尺寸(mm):450*450*450(可選擇)
載物托架:2塊
時間單位:min
二、HMDS真空烤箱,光刻HMDS預處理烘箱特點:
1、 采用醫用級不銹鋼316L材質制造,內膽為不銹鋼316L;加熱器均勻分布在內膽外壁四周,內膽內無任何電氣配件及易燃易爆裝置。鋼化、防彈雙層玻璃門觀察工作室內物體一目了然。 2、 箱門閉合松緊能調節,整體成型的硅橡膠門封圈,確保箱內高真空度。 3、 微電腦智能控溫儀,具有設定,測定溫度雙數字顯示和PID自整定功能,控溫精確,可靠。 4、 智能化觸摸屏控制系統配套進口PLC模塊可供用戶根據不同制程條件改變程序,溫度,真空度及每一程序時間。 5、 HMDS氣體密閉式自動吸取添加設計,真空箱密封性能佳,確保HMDS氣體無外漏顧慮。 6、 整個系統采用優質材料制造,無發塵材料,適用100 級光刻間凈化環境。
六甲基二硅胺(HMDS)是黃光區zui毒的東西,建議使用HMDS真空烘箱,HMDS真空烘箱預處理程序為:打開真空泵抽真空,待腔內真牢度達到某一高真空度后,開始充人氮氣,充到達到某低真空度后,再次進行抽真空、充入氮氣的過程,到達設定的充入氮氣次數后,開始保持一段時間,使硅片充分受熱,減少硅片表面的水分。然后再次開始抽真空,充入通過氮氣的HMDS氣體,在到達設定時間后,停止充入HMDS藥液,進入保持階段,使硅片充分與HMDS反應。當達到設定的保持時間后,再次開始抽真空。充入氮氣,完成整個作業過程。
HMDS與硅片反應機理圈:首先加熱到100℃-200℃,去除硅片表面的水分,然后HMDS與表面的OH一反應,在硅片表而生成硅醚,從而使極性表面變成非極性表面。整個反應持續到空間位阻(*基硅烷基較大)阻止其進一步反應。
尾氣排放等:多余的HMDS蒸汽(尾氣)將由真空泵抽出,排放到廢氣收集管道。
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