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海德創業(北京)生物科技有限公司


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EMS 575T雙頭高分辨率離子濺射鍍膜儀、EMS 550/EMS 500全自動離子濺射鍍膜儀

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具體成交價以合同協議為準

產品型號EMS 575T、EMS 550/EMS 500

品       牌

廠商性質經銷商

所  在  地北京市

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更新時間:2022-07-22 10:49:53瀏覽次數:379次

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產品簡介

EMS 550/EMS 500全自動離子濺射鍍膜儀、EMS 575T雙頭高分辨率離子濺射鍍膜儀

詳細介紹

   EMS 575T是一款渦輪泵雙頭高分辨率鍍膜儀(噴金儀)。EMS-575T樣本放置在旋轉樣品臺上(the rotary stage),蓋好蓋子(the chamber lid),按下啟動按鈕,渦輪分子泵開始加速,5秒鐘后,機械泵開始啟動,同時十秒氣體排空程序啟動,兩個泵同時運行確保一個高真空。當渦輪泵加速,它的速度由柱狀圖來標示,到達速度的一半時,真空計扭至自動狀態。當腔內氣體壓降為10-4 mbar,排氣開始,腔內氣壓維持在1 x 10-2 and 1 x 10-3 mbar之間,排氣的zui后階段,靶材按照預訂鍍膜時間開始噴鍍。鍍膜需要兩種不同金屬的,不需要關泵,繼續濺射另一種金屬。噴鍍完成后,兩個泵停止,排氣閥排氣。

    儀器質保期2年。模塊化的單元結構使得儀器維護方便,摘掉問題模塊,換上無問題的模塊,儀器即可很好的運行,一點不會耽誤實驗進程。

性能特征:
  • 全自動一鍵式操作,微處理器數字控制方式,可預設參數
  • LCD屏實時顯示狀態參數
  • 質保期:標準保修期為一年
  • 高分辨率精細鍍層(不超過0.5nm的鉻顆粒大小)
  • 薄金屬鍍層,典型5nm厚
  • 渦輪分子泵
  • Peltier冷卻雙濺射頭,無需冷卻水
  • 雙濺射頭:一次真空條件下,可順序濺射兩種不同的材料,對于需要依次噴鍍兩種金屬的樣品特別適用
  • 磁控濺射靶源設計
  • 旋轉機械泵為備用泵,機械泵為外部安裝式
儀器參數:
 

儀器尺寸
450mm(W) x 350mm(D) x 175mm(H)
工作腔室
硼硅酸鹽玻璃: 165mm(Dia.) x 125mm(H)
加不銹鋼底座
110mm(Dia.) x 115mm(H)
重量
42Kg
靶材
54mm(Dia.) x 0.2mm(Thick) (標準鉻靶材和金靶材)
樣品臺
60mm(Dia.) ,以60 r.p.m 旋轉,一定的傾斜度
真空泵工作范圍 (Penning)
ATM to 1x10-7 mbar,鍍膜腔體極限真空度10-7 mbar
操作真空
1x10-3 mbar to 1x10-4 mbar
濺射電流
0-175mA
濺射時間
0-4 minutes
功率
1000v at 100 ma, 100 watts
沉積速率
30nm/min at 100ma
渦輪分子泵
60 litres/Second (Ultimate vacuum 1x10-8 mbar)
電源配置
230 volts 50Hz (6 amp Max incl pump)
Services
Argon ­ Nominal 4 psi
真空泵(*配件)
附帶真空管和油氣過濾器

 
訂購信息:
 

貨號
產品名稱
規格
91110-TH
EMS 575T Twin Head Sputter Coater, complete with Target
91005
Rotary Vacuum Pump
92045
EMS 50 Water Chiller

  EMS 550具有旋轉樣品臺,可傾斜,適合各種樣品。參數可預設,全自動控制保證獲得精確的鍍層厚度。低電壓濺射、冷濺射、精細顆粒等功能的使用,大大提高了工作效率。腔室直徑為165 mm(6英寸),非常方便裝載及移走樣品。 儀器裝有60mm直徑、0.1mm厚的金靶(可選)。可選靶材包括金/鈀,鉑/鈀和鉑。 各種功能都集中設計在儀表板上,使用方便,滿足不同學科的用戶使用要求。 濺射參數可預設,包括氣體放氣針閥(此閥為電磁閥),一旦設置,就不需要再調節。濺射頭互鎖,系統可選配EMS250鍍碳附件。

    EMS 550本儀器為全自動操作,可控制獨立的真空泵。EMS500是EMS550的手動版本,其樣品臺不帶自動旋轉功能,其它參數與EMS550*相同。下圖為EMS550的外觀圖片:

性能特征:
  • 旋轉且可傾斜樣品臺
  • 高質量鍍層厚度(2nm 金膜)
  • 精確的可重復性能
  • 均勻沉積厚度
  • 復合樣本固定器
  • 全自動控制
  • 低耗冷卻系統,無需冷卻樣本及樣品臺
  • 低壓濺射
  • 20nm(或20埃)
  • 微電子控制
  • 聚碳酸酯安全殼體
儀器參數:
 
儀器尺寸
450mm(W) x 350mm(D) x 175mm(H)
工作腔室
硼硅酸鹽玻璃: 165mm(Dia.) x 125mm(H)
安全罩
聚碳酸酯
重量
18Kg
靶材
60 mm 直徑 x 0.1mm 厚(金靶為標準靶材)
樣品臺
60mm(Dia.) ,靶面距在25mm-45mm之間可調
真空泵工作范圍
ATM-1x10-2 mbar
濺射電流
0-50mA
濺射鍍膜時間
0-4 minutes
沉積速率
0-25nm/分
電源配置
230 volts 50Hz (6 amp Max incl pump)
 
產品信息:
 
貨號
產品名稱
規格
91000
EMS 550 Sputter Coater complete with Target
91000-MA
EMS 500 Manual Sputter Coater
91005
Rotary Vacuum Pump
Targets 60mm (Dia.) x 0.1mm (Thick) fitted inclusive as standard


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