HMDS鍍膜機(jī),黃光區(qū)鍍膜設(shè)備簡介:
HMDS鍍膜機(jī),黃光區(qū)鍍膜設(shè)備通過對烘箱預(yù)處理過程的工作溫度、處理時(shí)間、處理時(shí)保持時(shí)間等參數(shù)的控制可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS,降低了HMDS處理后的硅片接觸角,降低了光刻膠的用量,提高光刻膠與硅片的黏附性。
的重要性:
在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中,光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個(gè)工藝環(huán)節(jié),涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量,涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的,而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的,這造成光刻膠和硅片的黏合性較差,尤其是正膠,顯影時(shí)顯影液會侵入光刻膠和硅片的連接處,容易造成漂條、浮膠等,導(dǎo)致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗,同時(shí)濕法腐蝕容易發(fā)生側(cè)向腐蝕。增黏劑HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到半導(dǎo)體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃、藍(lán)寶石、晶圓等材料表面后,經(jīng)烘箱加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷涫杷珊芎玫嘏c光刻膠結(jié)合,起著偶聯(lián)劑的作用。
技術(shù)參數(shù):
1、設(shè)備名稱 | HMDS預(yù)處理系統(tǒng) |
2、設(shè)備型號 | JS-HMDS90 |
3、設(shè)備主要技術(shù)參數(shù) | |
3.1 工作室尺寸 | 450×450×450(mm) 可選其他數(shù)據(jù) |
3.2 材質(zhì) | 外箱采用304不銹鋼,內(nèi)箱采用316L醫(yī)用級不銹鋼 |
3.3 溫度范圍 | RT+10-250℃ |
3.4 溫度分辨率 | 0.1℃ |
3.5 溫度控制精度 | ±0.3% |
3.6 真空度 | ≤133pa(1torr) |
3.7 潔凈度 | class 100,設(shè)備采用無塵材料,適用100級光刻間凈化環(huán)境 |
3.8電源及總功率 | AC 220V±10% / 50HZ 總功率約2.0KW |
3.9 控制儀表 | 人機(jī)界面 |
3.10擱板層數(shù) | 2層 |
3.11 HMDS流量控制 | 可控制HMDS流量 |
3.11真空泵 | 油泵或干泵 |
3.12 保護(hù)裝置 | 漏電保護(hù),過熱保護(hù) |