Stock roll |
Annealing zone |
Growth zone |
主要特點
基于廣大科研界對實現大面積單層石墨烯薄膜在工業銅箔基底上卷對卷宏量制備的需求,我公司開發出一種新的卷對卷連續快速生長石墨烯薄膜的方法，設計并研制了可達到中試水平的石墨烯卷對卷化學氣相沉積系統，通過對石墨烯成核與生長的調控實現高品質石墨烯薄膜生長；此款設備是快速冷卻卷對卷等離子體增強CVD連續生長爐，它由高溫生長腔體，三路質量流量計氣路系統，真空機組，RF射頻電源模塊，石英管，冷卻裝置，收放銅箔的密封裝置，自動化控制系統組成，兩端分別安裝有進料進氣真空腔室和出料排氣真空腔室（即收放銅箔的密封裝置），收放銅箔的密封裝置內分別對應安裝有放卷滾輪和收卷滾輪，所輸出料排氣腔體與爐體之間安裝有冷卻裝置。相對于現有技術具有快速冷卻、連續生長的優點，可以進行大面積、高質量石墨烯的規模化生長。
技術參數
額定功率 | KW | 3 |
額定電壓 | V | AC 208-240V 50/60 Hz |
Z高溫度 | ℃ | 1200 |
持續工作溫度 | ℃ | ≤1100℃ |
推薦升溫速率 | ℃/min | ≤30℃/min |
爐管尺寸 | mm | 高純石英管Φ100×1400mm（可使用基底銅箔寬度≤80mm）（其他尺寸可定制） |
加熱區長度 | mm | 400 |
恒溫區長度 | mm | 200 |
控溫方式 | 人機界面加PLC控制，10寸液晶屏控制，數字工控儀表雙控，采用工業智能控溫儀表和軟件實現雙控，采用模糊型PID控制。 | |
無紙記錄 | 1、內置存儲記錄運行工藝數據，外接USB接口，可以電腦連接一鍵拷貝數據。 2、系統采用自動化工藝流程，設定好工藝一鍵操作。降低人為因素，工藝可靠性可以達到99.9%。 | |
控溫精度 | ℃ | ±1 |
加熱元件 | 進口電阻絲 | |
真空進料腔 | 進料進氣真空腔室與出料排氣腔體外殼以亞克力為主要材料，電機帶動銅箔在密閉生長條件下運動，并通過冷卻裝置后收緊成卷。 | |
氣路系統配制 | 內部裝有高精度質量流量計可準確的控制氣體流量；設有靜態混氣室，有助于氣體充分混合，按要求配比。 | |
射頻電源配制 | RF射頻電源等離子輔助模塊，大大降低了石墨烯的生長溫度，是銅箔的機械強度適合連續收放 | |
真空系統配制 | 真空機組內含真空泵，數字真空計以及相關的連接調節閥，可提供一個可控的低壓環境。 | |
認證標準 | CE | |
尺寸（長X寬X高） | mm | 2280*600*1280 |
凈重 | Kg | 約450 |
