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納米表面輪廓儀

參考價面議
具體成交價以合同協議為準
  • 公司名稱上海昊量光電設備有限公司
  • 品       牌
  • 型       號
  • 所  在  地
  • 廠商性質經銷商
  • 更新時間2024/2/14 15:18:30
  • 訪問次數275
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上海昊量光電設備有限公司是目前國內光電產品專業代理商,也是近年來發展迅速的光電代理企業。除了擁有一批專業技術銷售工程師之外,還有擁有一支強大技術和支持隊伍。我們的技術和支持團隊可以為客戶提供完整的設備安裝,培訓,硬件開發,軟件開發,系統集成等工作。不但為客戶提供適合的產品,而且為客戶提供完善的服務是我們始終秉承的理念!

自2008年成立以來,昊量光電專注于光電領域的技術服務與產品經銷,致力于引進國外很具*性與創新性的光電技術與可靠產品,為國內前沿的科研與工業領域提供優質的產品與服務,助力中國智造與中國創造! 目前,昊量光電已經與來自美國、歐洲、日本的多家光電產品制造商建立了緊密的合作關系。其代理品牌均處于相關領域的發展前沿,產品包括各類激光器、光電調制器、光學測量設備、精密光學元件等,所涉足的領域涵蓋了材料加工、光通訊、生物醫療、科學研究與國防等。

昊量光電堅持“專業源自專注,專注成就未來”的經營理念。近年來,我們專注于前沿的細分市場,為量子光學、生物顯微、物聯傳感、精密加工、*激光制造等領域的客戶提供系統解決方案。

秉承誠信、高效、創新、共贏的核心價值觀,昊量光電堅持以誠信為基石,憑借高效的運營機制和勇于創新的探索精神為我們的客戶與與合作伙伴不斷創造價值,實現各方共贏!

立足于光電產業,昊量光電始終堅持價值創造與創新,贏得客戶與合作伙伴的認可,不斷拓展業務領域的新邊疆,立志打造*的代理服務品牌!

分析儀,光譜儀
納米表面輪廓儀IMOS納米表面輪廓儀實現了精確、定量、iso兼容、非接觸式表面測量和表征微和納米尺度的表面特征,在短短幾秒鐘內可捕獲多達200萬個數據點
納米表面輪廓儀 產品信息

納米表面輪廓儀

IMOS納米表面輪廓儀實現了精確、定量、iso兼容、非接觸式表面測量和表征微和納米尺度的表面特征,在短短幾秒鐘內可捕獲多達200萬個數據點。選擇正確的光學輪廓儀系統取決于您的應用程序的要求,包括速度、精度、垂直范圍、自動化和靈活性。

IMOS光學表面輪廓儀在非接觸式光學表面輪廓方面提供了強大的通用性。有了該系統,它可以方便快捷地測量各種表面類型,包括光滑、粗糙、平坦、傾斜和階梯。所有的測量都是無損的,快速的,不需要特殊的樣品準備。納米表面輪廓儀系統的核心是部分相干光干涉技術,它提供亞納米精度測量更廣泛的表面比其他商業可用技術。


IMOS 納米表面輪廓儀提供了不同的應用程序的特殊價值,如平直,粗糙度,波浪形,臺階高度等等。
IMOS 納米表面輪廓儀配備了一個頭,可以填充離散變焦光學定制的系統。樣本分段配置范圍從自動化到自動化的編碼行程。

IMOS 納米表面輪廓儀提供高精度測量,易于使用,快速測量,及吸引力的價格,使其成為多功能3D光學輪廓儀的理想選擇。


主要優點:

  • 納米模式下的Z軸分辨率:

           ~ 30pm微起伏模式(使用原子級光滑鏡)

             ~ 0.3um微地貌模式下

  • 外形緊湊;

  • 快速響應;

  • 抗外部振動;

  • 測量過程自動化程度高;

  • 特殊的用戶友好的界面;

  • 高質量的圖形界面,以工作與多計劃三維表示的測量結果;

  • 廣泛的可能性配置的顯微鏡,以各種形態-邏輯的測量表面;

  • 能夠工作在兩種模式:微浮雕和納米浮雕;

  • 的存儲系統和測量結果的系統化。


在硅基板上的Pd薄膜,高度100nm硅晶體表面的階地,高度為0.314nm在硅基板上的Pd薄膜,高度100nm

微起伏模式下的測量結果

IMOS納米表面輪廓儀組成 

                    光電探測器*
矩形-1392*1040 px
光源 * 
LED (λeff = 630 nm)
顯微物鏡*
20x (or 10x, 5x) 2 items
放大率不變
                                     掃描

位移臺


  • 1d (Z) range 50 mm 

  • 2d (XY) range 75x50 mm


控制器
  • CCD-相機抓幀器

  • 位移臺控制器

  • 設備控制器 

硅晶體表面的階地,高度為0.314nm   
                                       計算機 
軟件
  • Software for working with IMOS

  • System / MS Windows

 
認證口徑,標稱高度值為101nm±3%
* – 按客戶需求 


微地貌模式下的測量結果

技術指標

                             測量區域 
0,4x0,3 mm2 (for 20X
像素尺寸 
0,3 μm (for 20X
橫向分辨率
Not worse 1 μm 
測量模式 
  • 微地貌模式

  • 微起伏模式 

認證口徑, 厚 40 ± 1,2 μm   
                            Z軸分辨率
  • 微地貌模式 ~ 0,3 μm

  • 微起伏模式 ~ 30 pm (with atomically smoth mirror) 

測量范圍 
  • 微地貌模式 up to 50 mm

  • 微起伏模式 up to 20 μm 

測量速度 
  • 微地貌模式 ~ 4 μm/s

  • 微起伏模式 ~ 20 μm/10s 

衍射元件, 厚 3,7 μm   



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