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合肥日新高溫技術(shù)有限公司
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更新時(shí)間:2022-07-12 14:53:44瀏覽次數(shù):853次
聯(lián)系我時(shí),請(qǐng)告知來(lái)自 環(huán)保在線(xiàn)CVD管式氣氛爐廣泛適用于高、中、低溫CVD工藝,碳納米管的研制、晶體硅基板鍍膜、納米氧化鋅結(jié)構(gòu)的可控生長(zhǎng)、金屬材料的擴(kuò)展焊接以及真空或保護(hù)氣氛下熱處理. CVD系列真空氣氛管式爐專(zhuān)門(mén)設(shè)計(jì)用于高溫材料沉積之用。是理想的科研設(shè)備。
應(yīng)用領(lǐng)域: CVD管式氣氛爐廣泛適用于高、中、低溫CVD工藝,例如:碳納米管的研制、晶體硅基板鍍膜、納米氧化鋅結(jié)構(gòu)的可控生長(zhǎng)等等;也可適用于金屬材料的擴(kuò)展焊接以及真空或保護(hù)氣氛下熱處理.
產(chǎn)品特點(diǎn): CVD管式氣氛爐專(zhuān)門(mén)設(shè)計(jì)用于高溫材料沉積之用。 硅鉬棒加熱、剛玉爐管爐膛, 可預(yù)抽真空,便于通入?yún)⒓臃磻?yīng)的氣體, CVD管式氣氛爐進(jìn)口單回路智能溫度控制儀控制、溫區(qū)設(shè)計(jì)隔板結(jié)構(gòu)。具有溫度均勻、控制穩(wěn)定、溫區(qū)間溫度擾動(dòng)小、升溫速度快、節(jié)能、使用溫度高、壽命長(zhǎng)等特點(diǎn),是理想的科研設(shè)備。
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