陳霞
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日本 acxys 等離子體設備ULCoat系列 氨法脫硫設備
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日本 acxys 等離子體設備ULCoat系列
通過在放電后向等離子體中注入前驅體，ULCoat系列可以在處理過的表面上沉積薄膜。
ULCoat是一款可將前驅體汽化并注入等離子體中，后由噴嘴完成薄膜沉積的系統。ULCoat系列需要與ULS OMEGA系列配合使用。
ULCoat系列的標準版本是為了允許使用有機金屬作為前驅體進行氧化硅（SiOx）的沉積而設計的。當然，我們也可以根據要求開發其他薄膜成分。
您可以與我們的研發實驗室合作，在研發合同的框架下，定制您的專屬解決方案。
– 與ULS OMEGA系列搭配使用
– 薄膜沉積
– 沉積厚度范圍從50至1000納米
– 沉積薄膜厚度均勻（+/- 2%）
– 中高處理速度可達200nm.cm2/s
– 專為氧化硅(SiOx)的沉積進行優化
在注入等離子體之前，液態前驅體的流速是可以控制的。該模塊由幾個部分組成。
– 前驅體儲存罐
– 前驅體流量控制單元
– 氣體流量控制單元
– 加熱器模塊（可選）
– 內置觸摸屏（OEM版本除外）
– 直觀的控制方式
– 多語言界面
– 故障檢測和診斷
– 實時顯示指令
– 空氣
– 氮氣
– 其他混合氣體
日本 acxys 等離子體設備ULCoat系列
– 工作溫度低
– 沉積薄膜厚度均勻（+/- 2%）
– 可以研究其他類型的沉積
– OpenFlow版本可用于開發新的沉積工藝
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