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詳細(xì)摘要： 穆勒矩陣測量系統(tǒng)高速高精度穆勒矩陣測量系統(tǒng)150XT型穆勒矩陣是公司研發(fā)的一款高速高精度穆勒矩陣測量系統(tǒng)，在不到一秒內(nèi)即可實時測得穆勒矩陣16組參數(shù)或者其他樣品...

詳細(xì)摘要： 皮米精度位移激光（可試用）昊量光電推出的皮米精度位移干涉測量儀quDIS是對納米級別的位移波動進(jìn)行量測的理想儀器，基于其的測量原理，相對距離的重復(fù)精度達(dá)到了的5...

詳細(xì)摘要： Film-Sense多波長上海昊量光電推出的多波長橢偏儀采用長壽命的LED光源，可分別提供405nm、450nm、465nm、525nm、595nm、635nm...

詳細(xì)摘要： 納米表面輪廓儀IMOS納米表面輪廓儀實現(xiàn)了精確、定量、iso兼容、非接觸式表面測量和表征微和納米尺度的表面特征，在短短幾秒鐘內(nèi)可捕獲多達(dá)200萬個數(shù)據(jù)點

詳細(xì)摘要： 全自動應(yīng)變儀LSM-9000LE是一款用于定量測量透明體內(nèi)延遲量的應(yīng)變和雙折射以及慢軸的方向的二維裝置

詳細(xì)摘要： 沖壓工藝應(yīng)變分析儀AutoGrid®comsmart通過應(yīng)變分析保證金屬深拉伸工藝質(zhì)量沖壓應(yīng)變分析儀已成為檢測金屬深拉伸工藝的重要的一部分

詳細(xì)摘要： 150AT全自動測量系統(tǒng)全自動應(yīng)力雙折射測量系統(tǒng)150AT應(yīng)力雙折射系統(tǒng)是應(yīng)力雙折射測量系統(tǒng)家族系列產(chǎn)品

詳細(xì)摘要： 不規(guī)則非球面光學(xué)元件應(yīng)力分布測量系統(tǒng)（透鏡測量等）不規(guī)則非球面光學(xué)元件（光刻機(jī)透鏡等）應(yīng)力分布測量系統(tǒng)利用調(diào)制器技術(shù)，公司的測量系統(tǒng)可以在深紫外（193nm）波...

詳細(xì)摘要： 光伏硅錠殘余應(yīng)力測量儀光伏硅錠應(yīng)力檢測越早越好在光伏行業(yè)/半導(dǎo)體行業(yè)中，硅片的制作中，如果硅錠在生長中有著很強的殘余應(yīng)力，切片時會很容易造成碎裂，所以對硅錠中應(yīng)...

詳細(xì)摘要： 大型液晶面板高精度分布測量系統(tǒng)大尺寸，高精度液晶基板應(yīng)力分布測量!公司的大尺寸高精應(yīng)力雙折射分布測量系統(tǒng)專用于LED液晶玻璃基板的應(yīng)力分布測量

詳細(xì)摘要： 性系數(shù)測量儀光彈性系數(shù)是材料的特性常數(shù)主要是透明材料在受力后，會出現(xiàn)各項異性產(chǎn)生雙折射現(xiàn)象

詳細(xì)摘要： 雙折射顯微成像系統(tǒng)生物組織/材料雙折射分布顯微成像系統(tǒng)（基于穆勒矩陣的偏振顯微鏡）公司的MicroImager偏振顯微/雙折射顯微成像系統(tǒng)是一款基于穆勒矩陣的偏...

詳細(xì)摘要： CRI的Abrio成像系統(tǒng)提供了一種的方法來測量和分析樣品中的微小量級雙折射

詳細(xì)摘要： Difrotec點衍射激光-大口徑（≥700mm）高精度（≤0.6nmRMS）Difrotec點衍射激光干涉儀--大口徑（≥700mm）、高精度（≤0.6nmR...

詳細(xì)摘要： 法布里-珀羅光纖法布里-珀涉儀系列產(chǎn)品基于具有平滑、均勻間隔傳輸峰的固定干涉儀設(shè)計

詳細(xì)摘要： XperWLI白光XperWLI是一款用于對各種精密器件及材料表面進(jìn)行亞納米級測量的檢測儀器

詳細(xì)摘要： 高分辨率激光便攜式、高分辨率、高動態(tài)范圍激光干涉儀！超分辨剪切干涉儀(High-resolution)是一款便攜式、高靈敏度、高精度的

詳細(xì)摘要： KALEOMultiWAVE多波長動態(tài)【KALEOMultiWAVE簡介】在光學(xué)計量領(lǐng)域持續(xù)創(chuàng)新，推出能夠兼顧測量透射誤差和反射波前誤差（TWE/RWE）的革命...

詳細(xì)摘要： OPTIPHASE是一家高性能干涉系統(tǒng)的供應(yīng)商，提供用于精密測試和測量儀器以及傳感系統(tǒng)的光纖

詳細(xì)摘要： 皮米級距離測量（可試用）昊量光電推出的皮米級距離干涉測量儀quDIS是目前市面上同類別可以測量皮米級距離的干涉儀