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河南熱處理設備有限公司
雙溫區PECVD實驗室設備由滑動式快速退火管式爐+真空系統+供氣系統組成,溫度可以達到1400度,極限真空可以達到10-3Pa,供氣系統是流量調節可以是質子流量計
產品結構:
1400度雙溫區cvd實驗室設備由滑動式快速退火管式爐+真空系統+供氣系統組成 ,溫度可以達到1400度,極限真空可以達到10-3Pa,供氣系統是流量調節可以是質子流量計,可以對多種氣體進行精確的混氣,然后導入到管式爐內部。
滑動式快速退火管式爐爐管兩端安裝真空法蘭,真空度用分子泵可以到10-5Torr,機械泵可到10-3Torr。爐底安裝一對滑軌,可用手動滑動。加熱和冷卻速率可達100°C/m。為取得加熱,可以預先加熱爐子到設定的溫度,然后移動爐子到樣品位置。為獲得冷卻,可在樣品加熱后移動爐子到另一端。加熱和冷卻速率在真空或者惰性氣體環境下可以達到10°C/s,是低成本快速熱處理的理想爐子。
軟件控制系統:該爐配有通訊接口和軟件,可以直接通過電腦控制爐子的各個參數,并能從電腦上觀察到爐子上PV和SV溫度值和儀表的運行情況,爐子的實際升溫曲線電腦會實時繪出,并能把每個時刻的溫度數據保存起來,隨時可以調出。
產品用途:
1400度雙溫區cvd實驗室設備是一種特殊的高真空CVD系統,是高校、科研院所、工礦企業做高溫氣氛燒結、氣氛還原、CVD實驗、真空退火用的理想產品。
產品參數:
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