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進口高真空CVD系統(BTF-1700C-CVD) 實驗室臭氧發生機

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更新時間:2023-06-12 09:19:11瀏覽次數:678次

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主要特點爐體采用硅鉬棒加熱Z高溫度可至1650℃,高真空系統采用進口分子泵機組,一鍵操作,簡潔方便,無噪音,同時配高精度的質量流量計系統

主要特點

爐體采用硅鉬棒加熱Z高溫度可至1650℃,高真空系統采用進口分子泵機組,一鍵操作,簡潔方便,無噪音,同時配高精度的質量流量計系統。通過標準配件連接,全部采用不銹鋼材料,電拋光處理。其廣泛應用于熒光粉材料,金屬材料,磁性材料,半導體材料,陶瓷材料,電化學,薄膜材料,CVD,石墨烯,硅納米管,納米線,等研究領域

技術參數

加熱區參數

爐管尺寸:Φ 60/80×1000mm(管徑可選)

爐管材質:99高純剛玉管

Z高溫度:1700

工作溫度:1650

恒溫精度:±1

溫度均勻性:小于±5

升溫速度:0-15℃/分鐘自由設定

控溫方式:模糊PID控制和自整定調節,智能化30段可編程控制,具有超溫和斷偶報警功能
爐膛材料:高純氧化鋁多晶純纖維,不參氧化鋁粉,潔凈節能。

加熱區:300mm

恒溫區:150mm

外型尺寸:610×440×720mm

標準配件剛玉管1根,不銹鋼密封法蘭1套,氟膠密封圈2套,氧化鋁管堵4只高溫手套1副坩堝鉤1支小保險1

密封系統:爐管兩端配有不銹鋼密封法蘭(包括精密針閥,指針式真空壓力表和軟管式寶塔嘴接頭)

端口可按實際使用擴展。

備注:可選配1200℃、1400℃、1600℃、1500℃等不同溫區的管式爐。

氣路系統參數

質量流量計參考量程(N2):200sccm、500sccm、1000sccm (量程可選)

準確度:±1.5%

線性:±0.5~1.5%

重復精度:±0.2%

響應時間:氣特性:1~4 Sec,電特性:10 Sec

工作壓差范圍:0.1~0.5 MPa

Z大壓力:3MPa

接口:Φ6,1/4''

顯示:4位數字顯示

工作環境溫度:5~45高純氣體

內外雙拋不銹鋼管:Φ6

壓力真空表:-0.1~0.15 MPa, 0.01 MPa/格

截止閥:Φ6

連接頭類型:雙卡套不銹鋼接頭。

備注:可選配一路、兩路、三路、四路等以上質量流量計。

高真空系統參

該系統由英國的前級無油泵,后級分子泵,真空傳感器和電子控制系統和LED液晶顯示組成,此系統是用來抽吸或壓縮空氣和其它無腐蝕性、不溶于水、不含有固體顆粒的氣體,以便在封閉容器中形成真空和壓力,吸入氣體中允許混有少量液體。

進口分子泵組: Edward

干濕:*無油的干式真空泵組

分子泵抽速:61 L/s

前級泵抽速:1.2?/h

極限總壓:10-7mabr

啟動時間:1.5 min

進氣口: KF40

冷卻方式:空冷

電壓:單項,220V

重 量:14.5 Kg

功 率:300 W

泵體體積:250*356*357 mm


連續進出料可回轉CVD系統 BTF-1200C-II-R-CVD 實驗

1、主要特點該設備爐管可360°旋轉,有助于粉料的燒結更均勻,可大角度

滑軌式CVD系統(型號:BTF-1200C-SL-CVD) 實驗室臭氧

設備特點此款設備是專為生長石墨烯研制的石墨烯薄膜生長專用爐,也同樣適用

國產高真空CVD系統(型號:BTF-1200C-II-CVD) 實驗室

設備特點此套設備是由1200℃雙溫區開啟式管式爐、三路質量流量計及低真

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