阿爾維勒半導體設備用伺服液壓站,為在半導體封裝設備領域，和中科院通過技術合作，安全替代了奧地利EVG公司的氣液結合系統，在光刻納米壓沖技術領域里(N12)實現了技術上的突破和超越。為半導體芯片的制造提供均勻壓力的同時并將位移最高精度控制在0.75μm，保證了芯片可以發揮更好的性能和更優的能耗，同時將液壓動力系統的噪音降至蕞低55dB(A) 。

是獨立的液壓裝置，它按驅動裝置(主機)要求供油，并控制油流的方向、壓力和流量，它適用于主機與液壓裝置可分離的各種液壓機械下，由電機帶動油泵旋轉，泵從油箱中吸油后打油，將機械能轉化為液壓油的壓力能。

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