高校、大學(xué)研究所專用實(shí)驗(yàn)型噴霧干燥機(jī)
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行業(yè)產(chǎn)品
北京精科智創(chuàng)科技發(fā)展有限公司
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更新時(shí)間:2022-10-17 15:41:09瀏覽次數(shù):222次
聯(lián)系我時(shí),請(qǐng)告知來(lái)自 環(huán)保在線VKL-2/3/5/10系列真空等離子清洗機(jī)真空等離子清洗機(jī)是國(guó)內(nèi)目前應(yīng)用廣泛的真空等離清洗機(jī),性能*,可以同時(shí)處理物理和化學(xué)等材料清洗材料。兩檔操作模式,兩路氣壓操作系統(tǒng),全觸摸屏操作,處理參數(shù)任意設(shè)定,是目前高校*材料清洗的設(shè)備。
VKL-2/3/5/10系列真空等離子清洗機(jī)系統(tǒng)
關(guān)鍵詞:等離子,13.56MHZ,真空清洗機(jī),2L
產(chǎn)品介紹:
VKL-2/3/5/10系列真空等離子清洗機(jī)真空等離子清洗機(jī)是國(guó)內(nèi)目前應(yīng)用廣泛的真空等離清洗機(jī),性能*,可以同時(shí)處理物理和化學(xué)等材料清洗材料。兩檔操作模式,兩路氣壓操作系統(tǒng),全觸摸屏操作,處理參數(shù)任意設(shè)定。
產(chǎn)品應(yīng)用領(lǐng)域:
1、光學(xué)器件、電子元件、半導(dǎo)體元件、激光器件、鍍膜基片、終端安裝等的超清洗。清洗光學(xué)鏡片、電子顯微鏡片等多種鏡片和載片。移除光學(xué)元件、半導(dǎo)體元件等表面的光阻物質(zhì),去除金屬材料表面的氧化物。
2、清洗半導(dǎo)體元件、印刷線路板、ATR元件、人工晶體、天然晶體和寶石。
清洗生物芯片、微流控芯片、沉積凝膠的基片。
3、高分子材料表面的修飾。封裝領(lǐng)域中的清洗和改性,增強(qiáng)其粘附性,適用于直接封裝及粘和。改善粘接光學(xué)元件、光纖、生物醫(yī)學(xué)材料、宇航材料等所用膠水的粘和力。
4、涂覆鍍膜領(lǐng)域中對(duì)玻璃、塑料、陶瓷、高聚合物等材料表面的改性,使其活化,增強(qiáng)表面粘附性、浸潤(rùn)性、相容性,顯著提高涂覆鍍膜質(zhì)量。
5、牙科領(lǐng)域中對(duì)鈦制牙移植物和硅酮壓模材料表面的預(yù)處理,增強(qiáng)其浸潤(rùn)性和相容性。
6、科研領(lǐng)域中修復(fù)學(xué)上移植物和生物材料表面的預(yù)處理,增強(qiáng)其浸潤(rùn)性、粘附性和相容性。對(duì)科研的消毒和殺菌
主要技術(shù)參數(shù):
型號(hào) | VKL-2 | VKL-3 | VKL-5 | VKL-10 |
腔體材料 | 石英玻璃 | |||
腔體容量 | 2L | 3L | 5L | 10L |
內(nèi)腔尺寸 | 100×200Lmm | 150×200Lmm | 150×270Lmm | 220×280Lmm |
射頻電源功率 | 0-300W 可調(diào) | |||
射頻功率 | 13.56MHZ | |||
RF放射 | 無(wú) | |||
頻率偏移量 | 小于0.2KHZ | |||
等離子體轟擊方式 | 從四周往中間 | |||
腔體內(nèi)溫度 | ≦30°C/ ≦65°C | |||
清洗時(shí)間 | 0-9999S可調(diào) | |||
顯示屏 | 3.8寸觸摸屏 | |||
操作方式 | 自動(dòng)和手動(dòng)兩種方式均可 | |||
噪音 | ≦56dB | |||
抽真空時(shí)間 | 啟動(dòng)到發(fā)輝光≦35秒(時(shí)間可調(diào)) | |||
真空檢測(cè) | 數(shù)字顯示 | |||
冷卻方式 | 強(qiáng)制風(fēng)冷 | |||
腔體門 | 高強(qiáng)度鋁合金,橡膠圈密封 | |||
真空泵控制方式 | 主機(jī)與真空泵聯(lián)動(dòng),主機(jī)可以控制真空泵開(kāi)關(guān) | |||
供應(yīng)電源 | AC220V/50HZ | |||
工作電流 | 不大于1.2A | |||
平衡 | 不倒翁橡膠,自動(dòng)平衡、減震 | |||
外形尺寸 | 400x450x250 , 560x540x550, 650*550*475 | |||
流量計(jì) | 精密兩路 |
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