離子濺射儀

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更新時間：2022-10-19 15:56:57瀏覽次數：259次

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產品簡介

離子濺射儀

詳細介紹

設備簡介：

NBD-LJ13離子濺射儀為掃描電鏡制作樣品而設計，結構簡單、操作使用直觀方便等特點。不需要很高的真空度就可以對掃描電鏡樣品進行離子濺射，可作為掃描電鏡樣品鍍膜的基本設備。

配置詳情

產品型號：NBD-LJ13

		主要特點 1.采用4C真空泵，各方面降噪，提升實驗感受； 2.標配樣品室真空表和濺射電流表，實時顯示和監控儀器狀態； 3.邊緣橡膠密封圈，長期使用不會出現影響樣品濺射室真空度的玻璃鐘罩“崩邊"現象。 4.配置濺射電流控制器和微型真空氣閥。結合自動控制電路，輕松控制真空室壓強、電離電流，并可任意選擇所需電離氣體，以獲得很好的鍍膜效果； 5.標配Φ58mm x 0.12mm 大尺寸純金靶，濺射范圍更大；
		控制面板：真空表：真空度的計量單位mmHg或Pa相對應的刻在表盤上，可方便的讀出工作室內的真空度。電流表：顯示濺射電流值單位(mA)。微調閥(充氣閥)：用于向工作室內進行充氣，試驗按鈕：配合針閥設置，以便獲得滿意的濺射電流值（小于10mA）。濺射按鈕：當“實驗"按鈕電流小于10mA時，可以按“濺射"按鈕，對樣品進行離子濺射。時間設定開關：控制離子濺射時間，定時開關10～110S. 電源開關：控制儀器機箱電源及機械泵的通斷。
		高純石英真空腔體Φ130（內118）*130mm 樣品臺尺寸：Φ42mm 樣品臺可調高度：75mm
電氣規格	AC220V 120W
腔體尺寸	Φ130（內118）*130mm
樣品臺尺寸	Φ42mm
樣品臺可調高度	樣品臺可調高度：75mm
樣品溫度	＜35~50℃
適用靶材	貴金屬AU、Pt、Pd合金AU-Pt、AU-Pb 常規金屬Cu、W、Ag 、Cr 等
濺射速度	一般來說，用于掃描樣品時金屬的厚度為100-300?,采用經驗法測定厚度，可由下面的公式得到 d = KIVT 其中： d：是鍍膜厚度(單位?) K：是常數，取決于濺射金屬和所充氣體(采用金靶和氬氣時K為0.17，金靶和空氣K為0.07)，此時靶與樣品之間的距離 I：是等離子流(單位mA) V：是所施電壓(單位kv) T“"是時間(單位s)。例如采用金靶和氬氣，l為8mA,T為100秒，V為1KV 則, d = KIVT = 0. 17×8×l×100 = 136? 即每秒1.36? 濺射速度依賴于濺射系統本身的清潔程度，因此保護工作室的清潔十分重要。其它金屬靶的濺射速度，例如鉑靶大約是金靶一半的速度，金一鉑靶則具有與金靶非常接近的濺射速度。
設備使用注意事項	1.靶材的更換先拔下濺射蓋板上高壓和地線插頭，拿下濺射蓋板，松開三只頂絲，拿下保護板，然后擰下壓環就可以更換新靶。 2.真空工作室清洗腔體工作室用無水乙醇、丙酮清洗，以保證系統能正常工作。 3、針閥使用針閥關閉后再反向擰兩圈，以防止針閥長時間不用出現閥針回彈不靈活的現象。如遇到打開針閥時不向工作室放氣，請將針閥鈕擰到底后再重新打開即可。
標配	1.NBD-4C真空泵； 2 金靶1只：Φ58*0.12 3.說明書一份.（可選配分子泵）
服務支持	一年保修，提供終身服務；
凈重	25KG