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上海永科光學(xué)儀器有限公司
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更新時(shí)間:2023-01-19 08:23:03瀏覽次數(shù):349次
聯(lián)系我時(shí),請(qǐng)告知來(lái)自 環(huán)保在線YKGP-700明暗場(chǎng)硅片檢測(cè)顯微鏡主要用于太陽(yáng)能電池硅片的觀察。它能生產(chǎn)高清晰的圖像,立體感較強(qiáng),成像較清晰和寬闊,又具有長(zhǎng)工作距離,并具有較大的視場(chǎng)范圍和相應(yīng)的放大倍數(shù),配有高像素的數(shù)碼攝像頭,可以很清楚地看到硅片的"金字塔" 的微觀形貌分布情況,及硅片的缺陷分析服務(wù).是太陽(yáng)能電池硅片的普遍專用顯微鏡。 硅片檢測(cè)顯微鏡可以觀察到太陽(yáng)能電池硅片肉眼難觀測(cè)的位錯(cuò)、劃痕、崩邊等;還可以對(duì)硅片的雜質(zhì)......
一、儀器的用途:
YKGP-700明暗場(chǎng)硅片檢測(cè)顯微鏡主要用于太陽(yáng)能電池硅片的觀察。它能生產(chǎn)高清晰的圖像,立體感較強(qiáng),成像較清晰和寬闊,又具有長(zhǎng)工作距離,并具有較大的視場(chǎng)范圍和相應(yīng)的放大倍數(shù),配有高像素的數(shù)碼攝像頭,可以很清楚地看到硅片的"金字塔" 的微觀形貌分布情況,及硅片的缺陷分析服務(wù).是太陽(yáng)能電池硅片的普遍專用顯微鏡。
硅片檢測(cè)顯微鏡可以觀察到太陽(yáng)能電池硅片肉眼難觀測(cè)的位錯(cuò)、劃痕、崩邊等;還可以對(duì)硅片的雜質(zhì)、殘留物成分分析.雜質(zhì)包括 顆粒、有機(jī)雜質(zhì)、無(wú)機(jī)雜質(zhì)、金屬離子、硅粉粉塵等,造成磨片后的硅片易發(fā)生變花、發(fā)藍(lán)、發(fā)黑等現(xiàn)象,使磨片不合格, 是太陽(yáng)能電池硅片生產(chǎn)企業(yè)進(jìn)行質(zhì)量控制最普通的儀器。
二、系統(tǒng)簡(jiǎn)介
粉塵分散顯微鏡系統(tǒng)是將傳統(tǒng)的光學(xué)儀器與計(jì)算機(jī)(數(shù)碼相機(jī))通過(guò)光電轉(zhuǎn)換器有機(jī)地結(jié)合在一起,能在計(jì)算機(jī)(數(shù)碼相機(jī))顯示屏幕上觀察實(shí)時(shí)動(dòng)態(tài)圖像,并能將所需要的圖片進(jìn)行編輯、保存和打印。
三、技術(shù)參數(shù)、
1.目鏡
類 型 | 放大倍數(shù) | 視場(chǎng)(mm) |
大視野目鏡 | 10X | Φ22 |
2.物鏡
類 型 | 放大倍數(shù) | 數(shù)值孔徑(NA) | 工作距離(mm) |
無(wú)限遠(yuǎn)平場(chǎng) 消色差物鏡(配明/暗場(chǎng)物鏡) | 5X | 0.12 | 8.05 |
10X | 0.25 | 7.86 | |
20X | 0.40 | 7.20 | |
40X | 0.60 | 3.0 |
3.光學(xué)放大倍數(shù):50X-600X
4.三目頭: 30?傾斜,瞳距調(diào)節(jié)范圍53-75mm
5.轉(zhuǎn)換器:五孔內(nèi)向式滾珠內(nèi)定位
6.載物臺(tái):雙層機(jī)械移動(dòng)式載物臺(tái), 外形尺寸:210mmX140mm,移動(dòng)范圍:63mmX50mm
7.調(diào)焦機(jī)構(gòu):粗微動(dòng)同軸調(diào)焦, 粗動(dòng)松緊可調(diào),帶鎖緊和限位裝置板,微動(dòng)格值:2μm
8.透射照明裝置:12V 30W鹵素?zé)?亮度可調(diào),阿貝聚光鏡 NA.1.25 可上下升降,配:藍(lán)濾色片和磨砂玻璃濾色片
9.落射照明系統(tǒng): 12V 50W 鹵素?zé)? 亮度與燈炮位置可調(diào), 內(nèi)置視場(chǎng)光欄、孔徑光欄、,推拉式檢偏器與起偏器,配置: 黃、藍(lán)、綠、磨砂玻璃濾色片轉(zhuǎn)換裝置
10.*防霉系統(tǒng)
四、系統(tǒng)組成
YKGP-700型:1.硅片顯微鏡 2.適配鏡 3.攝像器(CCD) 4.圖像采集卡 5.軟件
五、選購(gòu)件
1.目鏡: 10X(分劃) 2.物鏡: 50X 60X 80X 100X(干)
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