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深圳市納科電子有限公司
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PhoenixBeta研磨拋光設備：研磨/拋光分三個階段：1.磨平階段—使固定在中心加載夾持器上的多塊試樣處于同一平面2.無損傷(磨光)階段—去除試樣表面的變形損傷
Phoenix Beta研磨拋光設備：
研磨 / 拋光分三個階段：
1. 磨平階段—使固定在中心加載夾持器上的多塊試樣處于同一平面
2. 無損傷(磨光)階段—去除試樣表面的變形損傷，使其不影響觀察到試樣的真實組織
3. 拋光階段—去除殘余的微細磨痕
其特性如下：
1. 直徑8" (203mm)或10" (254mm)的研磨/拋光機
2. 單或雙盤研磨，轉速可調
3. 穩固厚重的鑄造底座能減少震動并增強了設備壽命
4. 的皮帶驅動系統
5. 安裝上VECTOR動力頭就可升級為半自動試樣制備系統
6. 半自動試樣制備系統提高了效率增強了試樣制備一致性
7. 隨材料和試驗人員的不同，但試樣制備的一致性保持不變
8. 單點加載荷和中心加載荷模式
9. 中心加載荷模式允許每任意一個試樣能在制備過程中從夾持器中取下，以便于檢查。也可以每次只制備一個試樣
10. 通過LED 顯示屏來改變研磨 / 拋光時間
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