雙離子束濺射鍍膜機 Coat 500 德國scia Systems
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北京歐唐科技發展有限公司
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簡介sciaCoat500雙離子束濺射鍍膜機，用于精密光學的大尺寸基板的高均勻性鍍膜，菜單控制的沉積過程可保證鍍膜質量的重復性
簡介
scia Coat 500雙離子束濺射鍍膜機，用于精密光學的大尺寸基板的高均勻性鍍膜，菜單控制的沉積過程可保證鍍膜質量的重復性。最多可以允許4種擋板，可以提高均勻性，也可以沉積設計的梯度薄膜。
常規屬性
- 主離子源用于濺射靶材到樣品基底上，沉積成膜；次離子源用于樣品表面離子束轟擊清洗或輔助鍍膜。
- 可沉積介質和金屬膜，用于光學濾波器、X射線反射鏡、同步輻射鏡等
- 可沉積漸變膜（比如Gobel 鏡）
- 具有在線基底預處理 （刻蝕、清洗、平滑化）功能
- 通過基板旋轉與線性運動的疊加，可以獲得的沉積均勻性
- 轉鼓靶架上最多可有6個水冷靶材料，用于在線更換
- 使用石英晶振和/或光學厚度監視器（OTM），菜單式控制多層膜沉積
- 通過線性軸運動控制系統，可以實現梯度薄膜沉積或表面誤差校正
- 可選襯底加熱至250°C以優化薄膜應力
系統性能
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