GB/T 2423.17—2008《電工電子產(chǎn)品環(huán)境試驗(yàn) 第2部分:試驗(yàn)方法 試驗(yàn)Ka:鹽霧》:這個(gè)標(biāo)準(zhǔn)等同采用IEC 60068-2-11:1981,規(guī)定了電工電子產(chǎn)品基本環(huán)境試驗(yàn)的鹽霧試驗(yàn)方法,適用于考核材料及其防護(hù)層的抗鹽霧腐蝕的能力,以及相似防護(hù)層的工藝質(zhì)量比較,也可以用來(lái)考核某些產(chǎn)品抗鹽霧腐蝕的能力。
GB/T 2423.18—2000《電工電子產(chǎn)品環(huán)境試驗(yàn) 第2部分:試驗(yàn)試驗(yàn)Kb:鹽霧,交變(NaCl溶液)》:這個(gè)標(biāo)準(zhǔn)涉及到鹽霧交變?cè)囼?yàn),即在鹽霧和干燥條件之間交替變化,以模擬更加復(fù)雜的環(huán)境影響。
GB/T 10125-2021人造氣氛腐蝕試驗(yàn)鹽霧試驗(yàn):該標(biāo)準(zhǔn)是根據(jù)ISO 9227:2017改進(jìn)而來(lái),提供了鹽霧試驗(yàn)的具體方法和要求,適用于各種材料在試驗(yàn)中的性能評(píng)估,但不能作為這些材料在服役中的耐蝕性的直接指南。
環(huán)境溫度:應(yīng)在0~30℃的范圍內(nèi),以確保試驗(yàn)箱的正常運(yùn)行和精確控制。
相對(duì)濕度:不大于85%R·H,避免過(guò)高濕度影響鹽霧試驗(yàn)的準(zhǔn)確性。
大氣壓:應(yīng)在86~106KPa的范圍內(nèi),保證鹽霧試驗(yàn)箱內(nèi)外壓力平衡。
振動(dòng)和電磁場(chǎng):周圍無(wú)強(qiáng)烈振動(dòng)和強(qiáng)電磁場(chǎng)影響,以免干擾設(shè)備正常工作。
避免熱源和陽(yáng)光直射:無(wú)陽(yáng)光直接照射或其它熱源直接輻射,防止溫度控制失準(zhǔn)。
氣流:周圍無(wú)強(qiáng)烈氣流,當(dāng)周圍空氣需強(qiáng)制流動(dòng)時(shí),氣流不應(yīng)直接吹到箱體上,以免影響鹽霧的均勻分布。
設(shè)備放置:試驗(yàn)機(jī)應(yīng)放置平整,保持水平,防止鹽霧外溢。
維修操作空間:試驗(yàn)機(jī)的四周應(yīng)留有一定的距離,方便維修操作。
單獨(dú)放置:?jiǎn)为?dú)放一隔列室,不宜與其它任何設(shè)備一并放置,以防腐蝕其它設(shè)備儀器。
鹽水溶液配置:通常使用5%的氯化鈉溶液,即500g分析純氯化鈉加入10L蒸餾水中溶解,并調(diào)節(jié)pH值在6.5-7.2范圍內(nèi)。
電源及空氣供應(yīng)系統(tǒng):操作前需檢查電源及空氣供應(yīng)系統(tǒng)是否按規(guī)定接好,確保線路開(kāi)關(guān)接好。
水位檢查:檢查飽和桶內(nèi)是否按規(guī)定要求加入水,以及實(shí)驗(yàn)室之底部及噴霧隔絕槽水之水位是否達(dá)到定位。
排氧及排水系統(tǒng):檢查排氧及排水系統(tǒng)是否依規(guī)定裝好。
金屬材料腐蝕試驗(yàn)鹽霧試驗(yàn)箱的安裝步驟:
開(kāi)箱檢查:將設(shè)備外包裝拆開(kāi)后,檢查設(shè)備是否有損傷和配件是否齊全。確認(rèn)無(wú)誤后,將設(shè)備移至預(yù)先準(zhǔn)備好的場(chǎng)所。
接通電源及氣源:根據(jù)設(shè)備要求,接通電源和氣源。需要接通帶壓力的氣源才能打開(kāi)箱蓋。電源線標(biāo)配3米,請(qǐng)參考電源說(shuō)明配備電源接口并聯(lián)接。氣源接口需用戶自行配備8MM氣管進(jìn)行聯(lián)接,并保持氣源供應(yīng)通暢,氣壓要求0.2~0.4MPa。
打開(kāi)箱蓋:小心打開(kāi)箱蓋,取出箱內(nèi)及鹽水箱內(nèi)的配件,并拆除配件的包裝。
配件安裝:
50ml量筒安裝至固定位置。
箱蓋支架安裝至固定位置。
V型樣品架安裝至箱內(nèi)V形槽處,O型樣品架安裝至箱內(nèi)U形槽處。
水源連接:將純凈水或蒸餾水加入箱體內(nèi)和箱體背后的入水口,直至面板上的低水位燈滅為止。
氣管連接:接通試驗(yàn)箱電源及空壓機(jī)電源,空壓氣管連接。
排水閥關(guān)閉:關(guān)閉機(jī)臺(tái)排水閥。
排霧管安裝:在機(jī)臺(tái)排霧口安裝排霧管,此管需連接至室外且不能折彎或有凸凹形狀。
自動(dòng)入水口連接:把機(jī)臺(tái)自動(dòng)入水口與水源連接。
密封水槽加水:在機(jī)臺(tái)密封水槽內(nèi)加入適量的水,水位需要蓋住密封蓋子,以免漏氣。
檢查噴塔底部清洗塞子:打開(kāi)試驗(yàn)箱檢查噴塔底部清洗塞子是否塞好。
藥水補(bǔ)給:將調(diào)配好的藥水倒入試驗(yàn)藥水入口,約至九分滿,并在水位過(guò)低時(shí)補(bǔ)充藥水以免影響試驗(yàn)結(jié)果。
選擇合適的鹽霧濃度進(jìn)行試驗(yàn)時(shí),需要考慮以下幾個(gè)因素:
試驗(yàn)?zāi)康暮蜆?biāo)準(zhǔn):
根據(jù)具體的測(cè)試目的和遵循的標(biāo)準(zhǔn)來(lái)確定鹽霧濃度。例如,中性鹽霧試驗(yàn)(NSS)通常使用的是5%的氯化鈉溶液。
材料類型:
不同材料對(duì)鹽霧的敏感性不同。鋼、鎳、黃銅等材料在低濃度(5%以下)時(shí)腐蝕速度隨濃度增加而增加;而鋅、鎘、銅等金屬的腐蝕速度始終隨著鹽溶液濃度的增加而增加。
環(huán)境模擬:
考慮產(chǎn)品的實(shí)際使用環(huán)境。如果產(chǎn)品將在海洋性氣候地區(qū)使用,可能需要選擇醋酸鹽霧試驗(yàn)(AASS)或銅加速醋酸鹽霧試驗(yàn)(CASS),因?yàn)檫@些方法能更好地模擬高鹽、潮濕的惡劣環(huán)境。
pH值:
鹽溶液的pH值對(duì)腐蝕性有顯著影響。pH值越低,溶液中氫離子濃度越高,酸性越強(qiáng),腐蝕性也越強(qiáng)。中性鹽霧試驗(yàn)的pH值應(yīng)在6.5~7.2之間。
鹽霧沉降量:
鹽霧沉降量也是一個(gè)重要的考慮因素。標(biāo)準(zhǔn)中性鹽霧試驗(yàn)中,鹽霧沉降率應(yīng)為1 - 2ml/80cm2·h。
試驗(yàn)溫度:
試驗(yàn)溫度對(duì)鹽霧的腐蝕作用有顯著影響。溫度越高,鹽霧腐蝕速度越快。對(duì)于中性鹽霧試驗(yàn),試驗(yàn)溫度通常選在35℃。
噴霧方式:
噴霧方式(連續(xù)或間歇)也會(huì)影響鹽霧濃度的選擇。連續(xù)噴霧和間歇噴霧對(duì)樣品的腐蝕效果不同,因此需要根據(jù)具體的測(cè)試要求來(lái)確定。
樣品放置角度:
樣品的放置角度也會(huì)影響鹽霧的沉降量和分布,進(jìn)而影響鹽霧濃度的選擇。