“The Grａnd EPMA" 誕生 搭場發(fā)射電子光學(xué)系統(tǒng)  將島津EPMA分析性能發(fā)揮到 從SEM觀察條件到1μA量級，在各種束流條件下都擁有空間分辨率的場發(fā)射電子光學(xué)系統(tǒng)。結(jié)合島津傳統(tǒng)的高性能X射線譜儀，將分析性能發(fā)。 當之無愧的“The Grａnd EPMA" ，水準的EPMA誕生！

 的空間分辨率

使用分析條件束流，引以為傲的二次電子圖像分辨率。（加速電壓10kV時，20nm@10nA//50nm@100nA/150nm@1μA）。與原來的電子槍（CeB6、鎢燈絲）的結(jié)果相比，一目了然。

由于可用更大的束流得到與原來電子槍相同分辨率的圖像，所以可進行超高靈敏度的X射線分析。 更加值得注意的是，束流為1μA時的SEM圖像。能夠得到1μA以上束流，而且可以壓縮到如此細的只有EPMA-8050G。

各種電子槍產(chǎn)生電子束的特性比較（加速電壓10kV）

 大束流超高靈敏度分析

場發(fā)射類型的SEM、EPMA可實現(xiàn)其他儀器所不能達到的大束流（加速電壓30kV時3μA）。在超微量元素的檢測靈敏度上實現(xiàn)了質(zhì)的飛躍，將元素面分析時超微量元素成分分布的可視化成為現(xiàn)實。而且，所有束流范圍內(nèi)不需要更換物鏡光闌，*不用擔心合軸，實現(xiàn)了高度自動化分析。

面的3個圖像為不同束流下，對不銹鋼中約1%左右Si進行面分析的結(jié)果※。束流越大，偏差越小，越能更加清楚的確認包含Si的范圍。

※ 分析條件：加速電壓10kV，積分時間50msec。分析花費時間約1小時。

 最多可同時搭載5通道高性能4英寸X射線譜儀

X射線取出角決定分析性能，52.5°更勝

對X射線的吸收越少，靈敏度越高。	高X射線取出角，可降低吸收帶來的影響，可以對深孔底部、孔中異物進行分析。

對深孔中異物的分析實例。左下為鐵（Fe）的分布，右下為鈦（Ti）的分布。通過EPMA-8050G的高取出角，即使是表面明顯凹凸不同的樣品，也可進行高精度分析。

分光晶體采用全聚焦*型晶體。

秉承島津研發(fā)經(jīng)驗的晶體加工制備工藝，保證提供高靈敏度·高分辨率兼?zhèn)涞姆止饩w。Johanson(*)型分光晶體是全聚焦晶體，無像差。

最多可同時搭載5通道兼顧高靈敏度、高分辨率的4英寸譜儀。

X射線譜儀羅蘭圓直徑是影響EPMA分析性能至關(guān)重要的因素之一。羅蘭圓半徑每增加1英寸，檢出靈敏度下降30%以上。島津EPMA可最多

 全部分析操作簡單易懂

全部操作僅需一個鼠標就可實現(xiàn)的*可操作性、追求「易懂」的人性化用戶界面、搭載導(dǎo)航模式等多個新功能，將「簡單易懂操作」成為現(xiàn)實。無論是初學(xué)者還是專家級用戶都可進行得心應(yīng)手的操作分析。

● 從樣品導(dǎo)入到生成分析報告，操作方便?！?/span>
● 即便是次使用也可輕松進行樣品定位SEM觀察。
● 的可操控性，大大提高分析準備工作的效率。
● 視覺上追求「易懂」的人性化用戶界面。
● 搭載導(dǎo)航模式，自動指引直至生成分析報告。