- 樣片數量及尺寸:1片Ф6英寸
- 刻蝕材料:包括并不限于單晶硅、多晶硅、SiO2、Si3N4、Ti、W、聚合物等
- 刻蝕不均勻性:±3%-±6%
- 刻蝕速率:0.1-4μm/min(視具體材料與工藝)
- 工作臺:可升降,包含水冷
- 電源配置:下電極偏壓,包含自動匹配
- 氣路數量與種類:4路防腐蝕氣路
- 操作模式:全自動+半自動控制
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